El 4 de junio, según informes de los medios, el Centro Belga de Investigación en Microelectrónica (IMEC) y ASML anunciaron el establecimiento de un laboratorio conjunto de litografía EUV de alta NA en Veldhoven, Países Bajos.
Después de años de cuidadosa construcción e integración, este laboratorio ahora está completamente preparado y brindará soporte técnico de vanguardia a los principales fabricantes mundiales de chips lógicos y de almacenamiento, así como a proveedores de materiales y equipos avanzados.
El equipo principal del laboratorio es un prototipo de escáner EUV de alta apertura numérica (TWINSCAN EXE: 5000), junto con las herramientas de procesamiento y medición que lo acompañan, que contribuirán conjuntamente a avances en la futura fabricación de chips.
La apertura de este laboratorio conjunto se considera un hito importante en el proceso de preparación para la producción en masa de tecnología EUV de alta NA. La industria espera que con la continua madurez y popularización de esta tecnología, marque el comienzo de aplicaciones de producción en masa a gran escala entre 2025 y 2026.
Vale la pena mencionar que Asma ha mostrado públicamente anteriormente la última generación de máquinas de litografía High NA EUV. Esta máquina de litografía tiene un volumen enorme, equivalente a un autobús de dos pisos, y pesa hasta 150 toneladas.
Debido a su enorme tamaño y complejo proceso de ensamblaje, el equipo debe empaquetarse en 250 fideos planos separados para su transporte, lo que muestra sus extraordinarios desafíos en el proceso de fabricación y transporte.
A pesar del alto coste de fabricación de la máquina de litografía High NA EUV, que supuestamente tiene un precio de 350 millones de euros (aproximadamente 2.700 millones de yuanes), su valor en el campo de la fabricación de semiconductores es inconmensurable. Se convertirá en un arma esencial para que los tres principales fabricantes de obleas del mundo logren una producción a gran escala de procesos avanzados por debajo de 2 nm.